三星电子4纳米工艺的良率目前已经超过75%

7月12日消息，三星电子4纳米工艺的良率目前已经超过75%，这引发了人们对于三星扩大半导体代工客户的猜测。

7月11日，HiInvestment&Securities研究员朴相佑在一份报告中表示：“三星电子近期成功地提高了4nm工艺的成品率”，并提高了“高通和英伟达再次合作的可能性”。

此前，三星电子代工厂曾经历过产品上市延迟以及10nm以下工艺良率提升缓慢的情况，导致主要客户纷纷转向台积电。结果，去年台积电的资本支出和产能分别是三星电子代工业务的3.4倍和3.3倍。

在7nm以下的先进工艺方面，台积电的市场占有率达到了90%，这进一步拉大了两公司之间的差距。

随着三星电子今年4nm工艺成品率超过75%、3nm工艺成品率超过60%，再加上台积电涨价的影响，业界认为三星有望再次夺回被台积电抢走的客户，而且之前高通和英伟达等多位客户也曾表示他们有必要将其外包生产进行多元化。

根据三星代工在SFF2023上公布的最新工艺技术路线图，该公司计划在2025年推出2纳米级的SF2工艺，2027年推出1.4纳米级的SF1.4工艺。与此同时，该公司还公布了SF2工艺的一些特性。

IT之家注意到，在扩大技术供应的同时，三星仍然致力于扩大其在韩国平泽和美国得州泰勒市的产能。

三星计划于2023年下半年在其平泽P3线开始量产芯片，而泰勒市新建厂房预计将于今年年底完工，并于2024年下半年开始运营。三星目前的计划是到2027年将其洁净室容量比2021年增加7.3倍。